实验级三温区管式炉采用了控制单元和炉膛一体化设计。整体双层风冷结构设计，使表面温度保持在60℃以下。炉膛本身采用了高纯氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型，加热元件为电阻丝。散热系统采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃。真空腔室采用石英管材质，其贯穿整个炉体，炉管两端选用不锈钢法兰密封，可在真空或气氛环境下工作。加热元件与炉管平行，均匀的分布在炉管外，有效地保证了温场的均匀性。

TFD热重立式炉由控制中心、加热炉主体、升降装置、水冷装置、测量装置及进气系统等构成，是一款自动化程度较高的产品。炉膛本身采用高纯氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型，加热元件为电阻丝。散热系统采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃。采用宇电控温仪和K型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备配有测重装置，可实时记录反应过程中物料重量变化，并可电脑记录控制进气流量。

催化剂气氛焙烧活化器，针对催化剂领域的气氛焙烧/活化过程中的客户痛点，如：样品装填与转移不便，不同位置的颗粒处理效果不一致，不同批次的重复性差，粉末迸溅，产物和溶剂无法及时排出，管壁污染与清洗，操作不便，占用空间等等。 科幂自主研发的催化剂气氛焙烧/活化器将带来更好的处理效果和操作体验。

实验级助力管式炉采用了控制单元和炉膛一体化设计。整体双层风冷结构设计，使表面温度保持在60℃以下。炉膛本身采用了高纯氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型，加热元件为电阻丝。散热系统采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃。真空腔室采用石英管材质，其贯穿整个炉体，炉管两端选用不锈钢法兰密封，可在真空或气氛环境下工作。加热元件与炉管平行，均匀的分布在炉管外，有效地保证了温场的均匀性。

单温区PE-CVD系统高性能射频电源.等离子体更稳定；滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区.并可实现快速升温和降温功能；$n与传统CVD相比较.生长温度更低

1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1400℃，最高温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。