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单温区PE-CVD系统
产品简介:

单温区PE-CVD系统高性能射频电源.等离子体更稳定;滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区.并可实现快速升温和降温功能;
与传统CVD相比较.生长温度更低

产品型号:

更新时间:2025-04-29

厂商性质:生产厂家

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产品介绍

单温区PE-CVD系统

产品特点:

单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源,等离子体更稳定;

滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区;

可实现快速升温和降温功能;与传统CVD相比较,生长温度更低。


技术参数

 

型号:TFE - 1200 - 50 - 220

设计温度:1150℃(短期)

额定温度:1100℃

推荐升温速率:≤10℃/min

控制精度:±1℃

炉管尺寸:Φ30/50/60*1200mm

炉膛尺寸:Φ80*220mm

加热区长度:220mm

恒温区长度:80mm

加热元件:优质国产电阻丝

额定功率:3KW

供气系统:

①三路高精度MFC

②量程0-500sccm(可定制)

射频电源:

①射频功率:5-500W;

②射频频率:13.56MHz;

③匹配方式:自动匹配

真空系统:双级旋片真空泵(可定制扩散泵 分子泵等)

外形尺寸:1250*510*810mm


 

 

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