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炉式合成设备
TF系列管式炉式设备
单温区PE-CVD系统
产品型号:
更新时间:2025-04-29
厂商性质:生产厂家
访问量:263
86-0551-62921227
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Product List单温区PE-CVD系统
单温区PE-CVD系统采用高性能射频电源,等离子体更稳定;
滑轨式结构能使整个反应腔室都处于辉光产生区;
可实现快速升温和降温功能;与传统CVD相比较,生长温度更低。
型号:TFE - 1200 - 50 - 220
设计温度:1150℃(短期)
额定温度:1100℃
推荐升温速率:≤10℃/min
控制精度:±1℃
炉管尺寸:Φ30/50/60*1200mm
炉膛尺寸:Φ80*220mm
加热区长度:220mm
恒温区长度:80mm
加热元件:优质国产电阻丝
额定功率:3KW
供气系统:
①三路高精度MFC
②量程0-500sccm(可定制)
射频电源:
①射频功率:5-500W;
②射频频率:13.56MHz;
③匹配方式:自动匹配
真空系统:双级旋片真空泵(可定制扩散泵 分子泵等)
外形尺寸:1250*510*810mm